特許

J-GLOBAL ID：200903079242044593

真空チャンバ用の新規な蓋および扉、並びにそれに対する前処理

発明者： トーマス バンホルザー ,  ダン マーシャル ,  エイヴィー テップマン ,  ドナルド エム. ミンツ
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-190301
公開番号（公開出願番号）：特開平8-017792
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】 装置のダウンタイムに至る時間を短縮し迅速かつ低原価の真空チャンバを洗浄する方法およびその真空チャンバ用の単純化された強固な蓋を提供する。【構成】 単一体加工アルミニウムの蓋12、石英の扉16および石英のシールド18を含む真空チャンバ用の交換可能な部品の表面を粗面化するためにビードを吹き付ける工程を含む前処理を行い、これにより半導体基板の加工中に部品の表面に堆積できる材料付着量が増大するので、装置ダウンタイムに至る時間を短縮させることができる。またアルミニウムの蓋12は単一体加工されているので単純化されより強固であるだけでなく、洗浄の際に分解・組み立ての作業を要しない。

請求項（抜粋）：

エッチング用の真空チャンバ内の交換可能な部品を処理する方法であって、前記部品の表面を粗面化するために前記表面にビード(bead)を吹き付ける工程と、前記表面の粒子を除去するために前記部品を超音波洗浄する工程と、前記部品をゆすぎ・乾燥する工程とを備える方法。