特許

J-GLOBAL ID：200903079249192440

ヒドロシリル基含有ポリシルセスキオキサン化合物、及びその製造方法

発明者： 磯田 裕一 ,  松村 功三郎
出願人/特許権者： チッソ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-302666
公開番号（公開出願番号）：特開2001-122965
出願日： 1999年10月25日
公開日（公表日）： 2001年05月08日
要約：

【要約】【課題】ポリシルセスキオキサンを有機樹脂中に組み込むための原料として、ヒドロシリル基を持つポリシルセスキオキサンを製造する試みが以前から何度か行われてきた。しかしながら、これらは反応条件の制約が大きかったり、得られたポリマーの安定性が悪かったり、H当量のコントロールに関する言及がなかったりするものであった。本発明の目的は、分子量並びにH当量の制御されたヒドロシリル基含有ポリシルセスキオキサン化合物、およびその製造方法を提供することである。【解決手段】オルガノトリクロロシランと、これのn倍モル量のオルガノモノクロロシランとの混合物に、オルガノトリクロロシランの(3+n)/2倍モル量の水を反応させて製造することを特徴とする、ポリシルセスキオキサン化合物、およびその製造方法。(ここで、nは0.1〜2.0の範囲の値である。)

請求項（抜粋）：

式(1)で示されるオルガノトリクロロシランと、これのn倍モル量の式(2)で示されるオルガノモノクロロシランとの混合物に、オルガノトリクロロシランの(3+n)/2倍モル量の水を反応させて製造することを特徴とする、分子内に式(3)で示される繰り返し単位を有する、数平均分子量が500〜5000、かつH当量が100〜1500のポリシルセスキオキサン化合物。 R1SiCl3 (1) R2R3HSiCl (2) R1Si(R2R3HSiO)nO(3-n)/2 (3)(ここで、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、炭素数1〜18の直鎖状、分岐状もしくは環状の飽和炭化水素基、炭素数2〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状の不飽和炭化水素基、または炭素数10以下のアリール基を示し、nは0.1〜2.0の範囲の値である。)

Fターム (10件)：

4J035BA11 ,  4J035CA021 ,  4J035CA06N ,  4J035CA061 ,  4J035CA142 ,  4J035EA01 ,  4J035EB01 ,  4J035LB01 ,  4J035LB03 ,  4J035LB20