特許

J-GLOBAL ID：200903079264655154

X線ミラー及びこれを用いたX線露光装置とデバイス製造方法

発明者： 林田 雅美 ,  渡辺 豊
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-161791
公開番号（公開出願番号）：特開平7-020293
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年01月24日
要約：

【要約】【構成】 本発明の斜入射X線ミラー1は、凸型円筒面をもつ炭化ケイ素基板2の表面に、膜厚10nm〜1μmの炭素層3をCVD法等の蒸着法によってコーティングしたことを特徴とする。【効果】 本発明の炭素層をあらかじめコーティングした斜入射X線ミラーにより、ミラーの表面に付着する汚染炭素層による反射光の強度変化を抑えることができ、X線リソグラフィ装置に使用した場合、X線強度測定、強度補正又はミラーのクリーニング回数を大幅に減らすことができる。

請求項（抜粋）：

X線反射面表面に膜厚10nm〜1μmの炭素層を設けたことを特徴とするX線ミラー。