特許

J-GLOBAL ID：200903079289642251

窒化ケイ素の製造方法

発明者： 大塚 哲美 ,  伏井 康人 ,  磯崎 啓
出願人/特許権者： 電気化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-311672
公開番号（公開出願番号）：特開平7-165405
出願日： 1993年12月13日
公開日（公表日）： 1995年06月27日
要約：

【要約】【目的】 比較的安価な金属シリコンを用い、特殊な粉砕工程や湿式の精製処理のような手間のかかる後処理を必要としないで、高比表面積の高α型窒化ケイ素粉末を製造すること。【構成】 金属シリコン粉末を含む厚みdの窒化原料を窒素及び/又はアンモニアを含む雰囲気下、以下の(1)〜(4)の条件で窒化させることを特徴とする窒化ケイ素の製造方法。(1)窒化率30%までは窒化原料の表面からd/10の深さまでの酸素含有量を2重量%未満とする(2)反応速度を4%/hr以下とする(3)窒化率10〜90%における反応速度を0.5%/hr以上とする(4)窒化率50%未満における反応速度の増加分を0.6%/hr2 以下とする

請求項（抜粋）：

金属シリコン粉末を含む厚みdの窒化原料を窒素及び/又はアンモニアを含む雰囲気下、以下の(1)〜(4)の条件で窒化させることを特徴とする窒化ケイ素の製造方法。(1)窒化率30%までは窒化原料の表面からd/10の深さまでの酸素含有量を2重量%未満とする(2)反応速度を4%/hr以下とする(3)窒化率10〜90%における反応速度を0.5%/hr以上とする(4)窒化率50%未満における反応速度の増加分を0.6%/hr2 以下とする

IPC (2件)：

C01B 21/068 ,  C04B 35/626

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭56-050170
  
• 特開昭63-170267
  
• 特開2042-024300