特許
J-GLOBAL ID：200903079293176117
表面処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-210164
公開番号（公開出願番号）：特開平8-078388
出願日： 1994年09月02日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：
【要約】【目的】 占有スペースを大きくすることなく複数の処理ユニットを効率的に配置することができるとともに、各ユニットのメンテナンスも容易な表面処理装置を提供すること。【構成】 上側のドライ処理ユニットであるUVモジュール23を、下側のウエット処理ユニットであるブラシモジュール21上の動作位置から、スライドガイド325に案内されるフレーム25ごと退避位置まで水平方向に移動させて、ブラシモジュール21上方に作業空間を形成し、このブラシモジュール21の修理等のメンテナンスを可能にする構造となっている。
請求項（抜粋）：
基板の表面処理を行う表面処理装置において、基板に所定の処理液を供給して基板のウエット処理を行うウエット処理ユニットと、基板のドライ処理を行うとともに、前記ウエット処理ユニットの上方に設けられてその動作を実行する動作位置と当該ウエット処理ユニットの上方から退避させられた退避位置とに移動可能であるドライ処理ユニットと、を備えることを特徴とする表面処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/306
, G03F 7/26
, H01L 21/68
