特許

J-GLOBAL ID：200903079297492650

パターン形成体の製造法

発明者： 山本 学 ,  岡部 将人 ,  小林 弘典
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-064282
公開番号（公開出願番号）：特開2000-255165
出願日： 1999年03月11日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：

【要約】【課題】 パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が不要で、かつCAD等のデジタルデータに基づいて直接パターンを形成することが可能であり、さらにパターン形成に際して用いる装置が比較的安価で取り扱いやすい装置であるパターン形成体の製造法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 本発明は、少なくとも光触媒含有層と、この光触媒含有層中の光触媒の作用により特性が変化する特性変化層とを有するパターン形成体用基板の光触媒含有層に対して光触媒反応開始エネルギーを加え、この光触媒反応開始エネルギーが加えられた領域内に反応速度増加エネルギーをパターン状に加えることにより、前記特性変化層上に光触媒の作用により特性が変化した特性変化部位からなるパターンを形成してパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造法を提供することにより上記課題を解決する。

請求項（抜粋）：

少なくとも光触媒含有層と、この光触媒含有層中の光触媒の作用により特性が変化する特性変化層とを有するパターン形成体用基板の光触媒含有層に対して光触媒反応開始エネルギーを加え、この光触媒反応開始エネルギーが加えられた領域内に反応速度増加エネルギーをパターン状に加えることにより、前記特性変化層上に光触媒の作用により特性が変化した特性変化部位からなるパターンを形成してパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造法。

IPC (2件)：

B41M 5/26 ,  G03F 7/095

FI (2件)：

B41M 5/26 S ,  G03F 7/095

Fターム (26件)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AB01 ,  2H025AB02 ,  2H025AB03 ,  2H025AB13 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BH03 ,  2H025DA03 ,  2H025DA08 ,  2H025DA40 ,  2H025FA01 ,  2H025FA06 ,  2H025FA10 ,  2H025FA28 ,  2H111HA14 ,  2H111HA18 ,  2H111HA22 ,  2H111HA23 ,  2H111HA32 ,  2H111HA35