地盤注入装置および地盤注入薬液の製造方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者： , , ,
代理人 (1件)：染谷仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-132187
公開番号（公開出願番号）：特開2001-311138
出願日： 2000年05月01日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【目的】軟弱あるいは漏水地盤に地盤注入薬液を注入して該地盤を固結する地盤注入装置および該薬液の製造方法であって、水ガラスおよび炭酸ガスを有効成分とした無公害で、均質な地盤注入薬液を地盤中に連続して注入し得、かつ高圧炭酸ガス容器中の炭酸ガスを無駄なく使い切ることができる。【構成】水ガラス水溶液貯槽1から地盤6中の注入管7に配管された水ガラス水溶液送液管路5と、高圧炭酸ガス容器8-1から水ガラス水溶液貯槽1、水ガラス水溶液送液管路5または地盤6の注入管7に配管された設定圧力の異なる複数系統の炭酸ガス圧送管路12、14とを備え、炭酸ガスを所望の一定流速で水ガラス水溶液中に噴射することにより、水ガラス水溶液に炭酸ガスを一定割合で吸収し、得られた均一に混合された地盤注入薬液を注入管7を通して地盤6中に注入することが構成される。

請求項（抜粋）：

水ガラス水溶液貯槽から地盤中の注入管に配管された水ガラス水溶液送液管路と、炭酸ガス高圧容器から前記水ガラス水溶液貯槽、前記水ガラス水溶液送液管路、または前記地盤中の注入管に配管された設定圧力の異なる複数系統の炭酸ガス圧送管路とを備えてなり、炭酸ガスを所望の一定流速で水ガラス水溶液中に噴射することにより、水ガラス水溶液に炭酸ガスを一定割合で、吸収し、均一に混合された地盤注入薬液を注入管を通して地盤中に注入することを特徴とする地盤注入装置。

IPC (4件)：

E02D 3/12 101 , C09K 17/04 , C09K 17/12 , C09K103:00

FI (4件)：

E02D 3/12 101 , C09K 17/04 P , C09K 17/12 P , C09K103:00

Fターム (16件)：

2D040AA04 , 2D040AB01 , 2D040AC05 , 2D040BA03 , 2D040CA02 , 2D040CB03 , 2D040CD02 , 2D040CD03 , 2D040CD04 , 2D040CD08 , 2D040DA03 , 4H026CA03 , 4H026CB01 , 4H026CC02 , 4H026CC03 , 4H026CC05

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開昭59-053585
特開昭54-161716
地盤注入薬液の製造方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-081320 出願人：強化土エンジニヤリング株式会社

審査官引用 (5件)

特開昭59-053585
特開昭59-053585
特開昭54-161716

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