特許

J-GLOBAL ID：200903079314797796

基板処理装置

発明者： 安福 孝次
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-147187
公開番号（公開出願番号）：特開平11-333388
出願日： 1998年05月28日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：

【要約】【課題】 搬送途中の基板などから液滴が落下しても、その液滴が搬送経路の下方にある処理槽内へ侵入しないようにした基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板W群を浸漬処理する処理槽15の開口15aの上方に、観音開きする一対の開閉部材19a、19bを設け、各開閉部材19a、19bの上面を遊端側から基端側に向かって低くなるように傾斜させる。また、一方の開閉部材19bの遊端側の上端縁は、開閉部材19a、19bの突き合わせ間隙部Gを覆うように、前方に迫り出している。開閉部材19a、19bに液滴が落下すると、この液滴は開閉部材19a、19bの傾斜した上面を流下して、液収集部としての処理室16に集められるので、処理槽15内に侵入して基板Wを汚染することがない。

請求項（抜粋）：

処理液を貯留し、その上部に基板の出し入れを許容する開口を備えた処理槽と、前記処理槽の開口の上方に設けられる開閉自在の蓋部材とを備えた基板処理装置において、前記蓋部材は、その上面が前記処理槽の外側に向かって低くなるように傾斜しており、かつ、前記蓋部材の傾斜した上面で案内された液滴を収集する液収集部を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

B08B 3/04 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

B08B 3/04 B ,  H01L 21/304 642 Z ,  H01L 21/304 648 Z ,  H01L 21/68 A