熱処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-095404
公開番号（公開出願番号）：特開2002-299275
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：

【要約】【課題】反射キャビティ空間内に存在し、基板温度測定用の放射温度計に入射する基板からの放射光以外の外乱光を抑制することができ、基板温度の計測精度の向上が図れる熱処理装置を提供する。【解決手段】この熱処置装置では、基板Wおよびガードリング31と反射面40とによって形成される反射キャビティ空間41内に存在する外乱光L2を、反射面40上に設けた光吸収チップ45によって吸収して抑制する。この外乱光L2とは、基板Wの温度計測を行う放射温度計43a〜43cに入射する基板Wからの放射光L1以外の光であり、これにはガードリング31からの放射光L2aとランプ12からの漏れ光L2bとが含まれている。光吸収チップ45は、略扇形状を有し、覗き窓42cの反射面40の径方向外方側でガードリング31と対向するように、かつ反射面40の外方に末広がりとなるように設けられている。

請求項（抜粋）：

処理室内に収容した基板に光を照射して熱処理を行う熱処理装置であって、前記処理室よりも上方に設けられ、基板の上方から前記光を照射する光照射手段と、光吸収性の材料で形成された板状の環形状を有し、前記処理室内において基板の外周縁部に外側から当接して基板を保持するガードリングと、前記ガードリングを介して基板を前記処理室内の所定位置に支持する支持部材と、前記処理室内であって基板および前記ガードリングの下方に設けられ、前記基板および前記ガードリングと略平行に設けられた反射面を有し、その反射面によって基板から放射される第1の放射光を反射する反射手段と、前記反射手段の前記反射面の前記基板と対向する位置に設けられた透孔を介して前記第1の放射光の強度を計測することによって当該基板の温度を計測する放射温度計と、基板および前記ガードリングと前記反射面とによって上下から挟み込まれて形成される反射キャビティ空間内において、前記透孔を介して前記放射温度計に入射する前記第1の放射光以外の外乱光の経路の少なくとも一部を遮るようにして設けられ、前記外乱光を吸収あるいは散乱して抑制する光抑制手段と、を備えることを特徴とする熱処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/26 , G01J 5/02 , G01J 5/06 , H01L 21/66

FI (4件)：

G01J 5/02 K , G01J 5/06 , H01L 21/66 T , H01L 21/26 T

Fターム (8件)：

2G066AC01 , 2G066AC11 , 2G066AC16 , 2G066BB01 , 2G066CA20 , 4M106AA01 , 4M106CA31 , 4M106DH02

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