露光描画装置、露光描画方法及び露光描画処理プログラムを記録した記録媒体

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中澤昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-101645
公開番号（公開出願番号）：特開平10-294260
出願日： 1997年04月18日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：

【要約】【課題】露光時におけるウェハ等の試料や試料ステージの伸縮に伴う描画パターンの位置ズレを高精度に補正することができる露光描画装置、露光描画方法及び露光描画処理プログラムを記録した記録媒体を提供する。【解決手段】試料上に形成された位置合わせ用マークの位置を検出し、次いで、位置合わせ用マークの位置の検出結果から試料の位置補正量を算出し、その位置補正量に基づいて描画を行い、次いで、所定間隔ごとに、試料上に形成された試料伸縮測定用マークの位置を検出し、次いで、試料伸縮測定用マークの位置の検出結果から試料の伸縮補正量を算出し、その伸縮補正量に基づいて描画を行い、描画終了時まで所定間隔ごとに繰り返す。

請求項（抜粋）：

試料にパターンを描画する描画手段と、前記試料上に形成された位置合わせ用マークの位置を検出する位置合わせ用マーク検出手段と、前記試料上に形成された試料伸縮測定用マークの位置を所定間隔ごとに検出する試料伸縮測定用マーク検出手段と、前記位置合わせ用マーク検出手段による検出結果から前記試料の位置補正量を算出するとともに、試料伸縮測定用マーク検出手段による検出結果から前記試料の伸縮補正量を算出し、前記算出された位置補正量及び伸縮補正量に基づいて前記描画手段を制御する描画制御手段と、を有することを特徴とする露光描画装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 541 M , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 A , G03F 9/00 H

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