赤色フィルタ-膜の形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中島淳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-010217
公開番号（公開出願番号）：特開平11-305030
出願日： 1999年01月19日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：

【要約】【課題】環境汚染の問題を軽減し、工程を単純化しうる赤色フィルター膜の形成方法を提供すること。【解決手段】下記化学式1で示される化合物を含有するネガ型フォトレジストをブラックマトリックスパターンの形成されているパネルに塗布してフォトレジスト層を形成した後、所定領域を露光する段階と、前記露光されたフォトレジスト層上に赤色顔料組成物を塗布及び乾燥した後、現像する段階とを含むことを特徴とする赤色フィルター膜の形成方法。【化1】但し、前記化学式1においてl:m:nは1.0-4.5:70.0-98.0:1.0-20.0である。

請求項（抜粋）：

下記化学式1で示される化合物を含有するネガ型フォトレジストをブラックマトリックスパターンの形成されているパネルに塗布してフォトレジスト層を形成した後、所定領域を露光する段階と、前記露光されたフォトレジスト層上に赤色顔料組成物を塗布及び乾燥した後、現像する段階とを含むことを特徴とする赤色フィルター膜の形成方法。【化1】但し、前記化学式1においてl:m:nは1.0-4.5:70.0-98.0:1.0-20.0である。

IPC (5件)：

G02B 5/20 101 , C08F 8/48 , C08F299/00 , G02B 5/22 , G03F 7/033

FI (5件)：

G02B 5/20 101 , C08F 8/48 , C08F299/00 , G02B 5/22 , G03F 7/033

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