特許
J-GLOBAL ID:200903079340842694
水素ガス吸蔵物質
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
上野 登
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-212104
公開番号(公開出願番号):特開2002-028483
出願日: 2000年07月13日
公開日(公表日): 2002年01月29日
要約:
【要約】【課題】 水素吸蔵量が多く、しかも、室温付近で水素を容易に貯蔵し得る水素ガス吸蔵物質を提供すること。【解決手段】 本発明に係る水素ガス吸蔵物質は、アルカリ金属と炭素材料の反応物からなる。炭素材料が非晶質炭素である場合には、アルカリ金属に対する非晶質炭素のモル比は、1.3以上26以下が好ましい。また、炭素材料が黒鉛である場合には、アルカリ金属に対する黒鉛のモル比は、2.7以上8未満が好ましい。
請求項(抜粋):
非晶質炭素とアルカリ金属との反応物からなり、前記アルカリ金属に対する前記非晶質炭素のモル比が、1.3以上26以下であることを特徴とする水素ガス吸蔵物質。
IPC (5件):
B01J 20/20
, C01B 31/02 101
, C01B 31/04 101
, C01B 31/08
, C01B 3/00
FI (5件):
B01J 20/20 C
, C01B 31/02 101 Z
, C01B 31/04 101 Z
, C01B 31/08 Z
, C01B 3/00 B
Fターム (23件):
4G040AA46
, 4G046AA08
, 4G046CA04
, 4G046CA06
, 4G046CB03
, 4G046CB08
, 4G046CC10
, 4G046EB13
, 4G046EC03
, 4G046EC05
, 4G046HB01
, 4G046HB07
, 4G046HC03
, 4G066AA02D
, 4G066AA04A
, 4G066AA04B
, 4G066AA05B
, 4G066AC06A
, 4G066AC07A
, 4G066AC08A
, 4G066CA38
, 4G066FA34
, 4G066FA37
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