特許
J-GLOBAL ID：200903079361181930
基板乾燥方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-303369
公開番号（公開出願番号）：特開平6-151405
出願日： 1992年11月13日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：
【要約】【目的】 基板の裏面中央部まで十分に気体を到達させ、かつ回転シャフトからの水滴の再付着を防止することによって基板裏面中央部に水滴を残さずに良好な基板の乾燥方法を提供するもので、とくに液晶基板や半導体基板の乾燥に用いて有用なものである。【構成】 回転シャフト3に取り付けられたアーム等の基板支持部2によって支持された基板6の裏面中心部に気体7を吹き付けつつ基板を高速回転させた後、前記基板の回転を停止または低速で保持した後、前記ガスの吐出を停止して再度高速回転させることを特徴とする基板乾燥方法である。
請求項（抜粋）：
回転軸に取り付けられたアーム等の支持部によって支持された基板の裏面中心部に気体を吹き付けつつ基板を高速回転させた後、前記基板の回転を停止または低速で保持した後、前記気体の吐出を停止して再度高速回転させることを特徴とする基板乾燥方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 361
, C23F 1/00 101
, G03F 7/30 502
