ブラックパターンの形成方法およびブラックパターンの形成されたカラーフィルタ

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-110378
公開番号（公開出願番号）：特開平6-324325
出願日： 1993年05月12日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：

【要約】【目的】カラー液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタの、特にカラーフィルタ素子の間に遮光のため形成されるブラックパターンに関し、安価に製造することができ、かつ平面性の高いブラックパターンの形成方法である。【構成】ガラス基板に、ブラック染料に染色される可染性樹脂層を形成し、この層をブラック染料で染色してブラック染料染色樹脂層を形成し、その表面にフォトレジスト層を形成し、そのフォトレジスト層をパターンニングしてパターンニングされたフォトレジスト層を形成するとともに、このパターンニングされたフォトレジスト層をマスクとしてブラック染料染色樹脂層に染色されたブラック染料を脱色することによりパターンニングされたブラック染料染色樹脂層を形成し、前記フォトレジスト層を剥離することにより、パターンニングされたブラック染料染色樹脂層を得ることを特色とするブラックパターンの形成方法。

請求項（抜粋）：

ガラス基板(10)に透明かつ染色可能な可染性樹脂層を形成し、この可染性樹脂層をブラック染料で染色してブラックに染色されたブラック染料染色樹脂層(20)を形成し、その表面にフォトレジストを塗布してフォトレジスト層(30)を形成し、そのフォトレジスト層(30)にパターン露光、現像することによりパターンニングしてパターンニングされたフォトレジスト層(30P)を形成するとともに、このパターンニングされたフォトレジスト層(30P)をマスクとしてブラック染料染色樹脂層(20)に染色されたブラック染料を脱色することによりパターンニングされたブラック染料染色樹脂層(20P)を形成し、前記パターンニングされたフォトレジスト層(30P)を剥離することを特色とするブラックパターンの形成方法。

IPC (2件)：

G02F 1/1335 505 , G02B 5/20 101

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