特許

J-GLOBAL ID：200903079362488169

位相シフト回折格子の作製方法

発明者： 中西 正浩
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 加藤 一男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-181771
公開番号（公開出願番号）：特開平8-029606
出願日： 1994年07月11日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】【目的】再現性よく精密な回折格子形状が作製できる位相シフト回折格子の作製技術を提供することにある。【構成】基板1上に均一な凹凸の周期を有する回折格子2を作製し、これをマスクとした結晶成長を行って、均一な凹凸形状の回折格子g1を作る。続いて、レジスト3′で一部領域を覆って、このマスク2を利用してエッチングすることにより、元の均一な回折格子g1の凹凸に対して逆相の部分と同相の部分を作製する。こうして、位相シフト回折格子g2を得る。

請求項（抜粋）：

基板上に第1の材料による均一な凹凸の周期を有する回折格子パターンを作製し、該第1の材料による回折格子パターンをマスクとして該基板上に第2の材料を成長した後、該基板の一部領域を該第1の材料による回折格子パターンをマスクとしてエッチングすることを特徴とする位相シフト回折格子の作製方法。