特許

J-GLOBAL ID：200903079372373548

パタン形成材料及びそれを用いたパタン形成方法

発明者： 逆水 登志夫 ,  白石 洋 ,  山口 秀範 ,  加藤 幸治
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-280883
公開番号（公開出願番号）：特開平7-225480
出願日： 1993年11月10日
公開日（公表日）： 1995年08月22日
要約：

【要約】【目的】 アルカリ現像可能な高感度、高解像度のポジ型パタン形成材料を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂と酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解性を増加させる反応性を有する高分子溶解阻害剤と活性化学線により酸を生じる化合物と水溶性添加剤から構成される化学増幅系レジストにおいて、水溶性添加剤を高分子化合物の全量100重量部に対して50超〜200重量部配合してレジストを作成し、ポジ型パタン形成を行なう。【効果】 アルカリ水溶液で現像可能で、膜べりの少ない高感度、高解像度のポジ型のパタン形成が可能である。

請求項（抜粋）：

(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解性を増加させる反応性を有する高分子溶解阻害剤、(c)水溶性添加剤、を少なくとも含むポジ型化学増幅系レジスト組成物であって、上記成分(c)を(b)の全量100重量部に対して50超〜200重量部配合したことを特徴とするパタン形成材料。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027