特許
J-GLOBAL ID：200903079377350767

透明導電膜形成用塗布液及び透明導電膜並びにその製造方法

発明者：
大塚良広

大塚良広 について

, 
行延雅也

行延雅也 について


出願人/特許権者：
住友金属鉱山株式会社

住友金属鉱山株式会社 について


代理人 (2件)： 押田 良隆 ,  押田 良輝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-286266
公開番号（公開出願番号）：特開2006-128098
出願日： 2005年09月30日
公開日（公表日）： 2006年05月18日
要約：
【課題】レーザー光線照射による透明導電膜パターン形成(トリミング)やレーザー焼成が可能な透明導電膜形成用塗布液を提供する。【解決手段】 アセチルアセトンインジウム、ドーパント用有機金属化合物、セルロース誘導体、アルキルフェノール及び/又はアルケニルフェノールと、二塩基酸エステル及び/又は酢酸ベンジルからなる溶液に有機色素を溶解させて透明導電膜形成用塗布液を得る。この塗布液を基板上に塗布、乾燥させた後、必要に応じレーザー光線照射によるトリミングを行い、400°C以上の温度で焼成、又はレーザー焼成して透明導電膜パターンを形成する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
アセチルアセトンインジウム、ドーパント用有機金属化合物、セルロース誘導体、有機色素、アルキルフェノール及び/又はアルケニルフェノール、二塩基酸エステル及び/又は酢酸ベンジルを含有する透明導電膜形成用塗布液であって、アセチルアセトンインジウムとドーパント用有機金属化合物との合計含有量が1〜30重量%、セルロース誘導体の含有量が0.1〜5重量%、有機色素の含有量が0.05〜2重量%であることを特徴とする透明導電膜形成用塗布液。
IPC (4件)：
H01B 13/00 ,  C03C 17/25 ,  H01B 5/14 ,  H01B 1/20
FI (4件)：
H01B13/00 503B ,  C03C17/25 A ,  H01B5/14 A ,  H01B1/20 Z
Fターム (16件)：
4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AC12 ,  4G059EA03 ,  4G059EB05 ,  5G301DA22 ,  5G301DA28 ,  5G301DA42 ,  5G301DD02 ,  5G301DE01 ,  5G307FA01 ,  5G307FB01 ,  5G307FC09 ,  5G323BA04 ,  5G323BB06 ,  5G323BC01
引用特許：
出願人引用 (10件)
  • 特公昭57-138108号公報
  • 透明導電性被膜形成用塗布液及び低反射透明導電膜
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-113360   出願人：住友金属鉱山株式会社, 東北化工株式会社
  • 特公昭61-26679号公報
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審査官引用 (5件)
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