特許

J-GLOBAL ID：200903079378565490

静電チャックのクリーニング方法

発明者： 秋葉 史慎
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-079131
公開番号（公開出願番号）：特開2002-280365
出願日： 2001年03月19日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
要約：

【要約】【課題】 静電チャック上の汚染物質を効率的に、かつ十分に除去することが可能な静電チャックのクリーニング方法を提供する。【解決手段】 チャンバ内に設けられた、基板を吸着して支持するための静電チャックをクリーニングする静電チャックのクリーニング方法であって、(1)静電チャックにプラズマエッチングを施すプラズマエッチング工程と、(2)プラズマエッチング工程においてプラズマエッチングされた静電チャック上に基板を搭載する基板搭載工程と、(3)基板搭載工程において静電チャック上に搭載された基板を搬出する基板搬出工程と、を有する。

請求項（抜粋）：

チャンバ内に設けられた、基板を吸着して支持するための静電チャックをクリーニングする静電チャックのクリーニング方法であって、前記静電チャックにプラズマエッチングを施すプラズマエッチング工程と、前記プラズマエッチング工程においてプラズマエッチングされた前記静電チャック上に基板を搭載する基板搭載工程と、前記基板搭載工程において前記静電チャック上に搭載された前記基板を搬出する基板搬出工程と、を有することを特徴とする静電チャックのクリーニング方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  B08B 7/00

FI (2件)：

B08B 7/00 ,  H01L 21/302 N

Fターム (15件)：

3B116AA47 ,  3B116AB51 ,  3B116BA01 ,  3B116BC01 ,  5F004AA15 ,  5F004BA00 ,  5F004BA09 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BB26 ,  5F004CA04 ,  5F004DA23