特許
J-GLOBAL ID：200903079385546921
陰極スパッタリング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-329301
公開番号（公開出願番号）：特開平5-239634
出願日： 1992年12月09日
公開日（公表日）： 1993年09月17日
要約：
【要約】【目的】 陰極スパッタリング装置を基板の被覆の一様性を公知の陰極スパッタリング装置に比べて一層高めることができるように構成することである。【構成】 ガス入口3と基板ホルダ10とガス出口5とが共通の軸線4上に配置されているかまたは複数のガス入口3a,3bおよび(または)ガス出口5a,5bが基板ホルダ10の軸線4に対して対称的に配置されている。
請求項（抜粋）：
陰極スパッタリング装置であって、外ケーシングによって仕切られていて真空室として構成された、ターゲット(8,9)を有するカソード(6,7)を少なくとも1つ備えた、カソードステーション(2)が少なくとも1つ設けられており、カソードステーション内に被覆すべき基板(11)を保持するための基板ホルダ(10)が設けられており、かつカソードステーションが少なくとも1つのガス入口(3)と、少なくとも1つの、真空ポンプと接続されるガス出口(5)とを備えている形式のものにおいて、ガス入口(3)と基板ホルダ(10)とガス出口(5)とが共通の軸線(4)上に配置されているか、または複数のガス入口(3a,3b)および(または)ガス出口(5a,5b)が基板ホルダ(10)の軸線(4)に対して対称的に配置されていることを特徴とする、陰極スパッタリング装置。
引用特許：
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