特許

J-GLOBAL ID：200903079388183161

キシリトールの製造方法

発明者： 青木 雄一 ,  小野 恵理子
出願人/特許権者： 味の素株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-226714
公開番号（公開出願番号）：特開2001-046091
出願日： 1999年08月10日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：

【要約】【課題】キシリトール生産菌を用いてキシリトールを製造する方法において、得られたキシリトール溶液より、工業的に効率よくキシリトールを取得する手段を提供する。【解決手段】キシリトール溶液を濃縮し、濃縮液に対して0.1〜50倍量の低級アルコールを加え、アルコールに不溶な無機酸又は無機酸塩又は有機酸又は有機酸塩を沈殿させた後、沈殿を分離除去し、得られた濾液を濃縮し、キシリトールを回収する。

請求項（抜粋）：

キシリトール溶液を濃縮し、濃縮液に対して0.1〜50倍量の低級アルコールを加え、アルコールに不溶な無機酸又は無機酸塩又は有機酸又は有機酸塩を沈殿させた後、沈殿を分離除去し、得られた濾液を濃縮し、キシリトールを回収することを特徴とするキシリトールの製造法。

IPC (4件)：

C12P 7/18 ,  C07C 29/86 ,  C07C 31/18 ,  C12R 1:01

FI (3件)：

C12P 7/18 ,  C07C 29/86 ,  C07C 31/18 A

Fターム (15件)：

4B064AC05 ,  4B064CA02 ,  4B064CC03 ,  4B064CD02 ,  4B064CD09 ,  4B064CE04 ,  4B064DA10 ,  4H006AA02 ,  4H006AD11 ,  4H006AD15 ,  4H006AD17 ,  4H006BE11 ,  4H006BE12 ,  4H006FE11 ,  4H006FG50