特許

J-GLOBAL ID：200903079399796106

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 佐々木 知也
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-293175
公開番号（公開出願番号）：特開2004-318045
出願日： 2003年08月13日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】 160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、良好なパターンプロファイル、限界解像力、ドライエッチング耐性を示し、エッチング後の膜の表面形状も良好なポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 特定の繰り返し単位を持つ樹脂(A1)と、特定の繰り返し単位を持つ樹脂(A2)および(B) 活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を含有し、樹脂(A1)または樹脂(A2)の少なくとも一方は酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する含む樹脂であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A1) 下記一般式(Z)で示される基を少なくとも2つ有する繰り返し単位を含有する樹脂、 (A2) 下記一般式(I)から式(III)で示される繰り返し単位のうち少なくもと1つの繰り返し単位を含有する樹脂、及び (B) 活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物、 を含有し、 樹脂(A1)または樹脂(A2)の少なくとも一方は酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (1件)

• WO-00/17712号パンフレット