特許
J-GLOBAL ID:200903079399970459

可変減衰装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 坂上 正明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-148849
公開番号(公開出願番号):特開2002-341261
出願日: 2001年05月18日
公開日(公表日): 2002年11月27日
要約:
【要約】【課題】 光を可変的且つ精緻に減衰し、さらに迅速に遮断を行うことが可能な可変減衰装置を提供する。【解決手段】 光源からの入射光の一部を遮蔽する減光部111と、入射光を完全に遮断するシャッタ部112とを備える遮蔽部材105と、減光部及びシャッタ部の両方を駆動させる1個の駆動部109と、遮蔽部材及び駆動部を制御し、減光部の遮蔽面積を変化させることによって光の減衰量の調節を行う制御部108とを設ける。
請求項(抜粋):
光源からの入射光の一部を遮蔽する減光部と、前記入射光を完全に遮断するシャッタ部とを備える遮蔽部材と、前記減光部及び前記シャッタ部の両方を駆動させる駆動部と、前記遮蔽部材及び駆動部を制御し、前記減光部の遮蔽面積を変化させることによって光の減衰量の調節を行う制御部と、前記遮蔽部材、前記駆動部、及び前記制御部を保持する保持基盤と、を備えることを特徴とする可変減衰装置。
Fターム (6件):
2H041AA02 ,  2H041AB02 ,  2H041AC01 ,  2H041AZ01 ,  2H041AZ05 ,  2H041AZ08

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