特許

J-GLOBAL ID：200903079408794871

酸素還元性触媒層の製造方法

発明者： オブライエン,デニス ピー. ,  シュモーケル,アリソン ケー. ,  バーンストローム,ジョージ ディー. ,  アタナソスキ,ラドスラブ ,  ウッド,トーマス イー. ,  オニール,デイビッド ジー.
出願人/特許権者： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  小林 良博 ,  蛯谷 厚志
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-506681
公開番号（公開出願番号）：特表2009-534177
出願日： 2007年04月09日
公開日（公表日）： 2009年09月24日
要約：

酸素還元性触媒層が、物理的蒸着および熱処理を用いて基材上に配置された触媒物質膜を含む酸素還元性触媒層、ならびにその酸素還元性触媒層の製造方法。触媒物質膜は、白金を実質的に含まない遷移金属を含む。含窒素ガスを含む処理環境中で、物理的蒸着および熱処理の少なくとも1つを実施する。

請求項（抜粋）：

白金を実質的に含まない遷移金属を含む第1ターゲットから基材上に触媒物質を物理的に蒸着させること、および 当該触媒物質を熱処理することを含む製造方法であって、前記物理的蒸着および前記熱処理の少なくとも1つを含窒素ガスを含む処理環境中において実施する、酸素還元性触媒層の製造方法。

IPC (2件)：

B01J 37/02 ,  B01J 27/24

FI (2件)：

B01J37/02 301P ,  B01J27/24 M

Fターム (48件)：

4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA08B ,  4G169BB11A ,  4G169BB11B ,  4G169BB15A ,  4G169BB15B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169CC32 ,  4G169EA01Y ,  4G169EA08 ,  4G169EA10 ,  4G169FA02 ,  4G169FB02 ,  5H018AA06 ,  5H018AS01 ,  5H018BB01 ,  5H018BB06 ,  5H018BB07 ,  5H018BB09 ,  5H018BB13 ,  5H018BB16 ,  5H018DD05 ,  5H018DD06 ,  5H018DD08 ,  5H018EE02 ,  5H018EE05 ,  5H018EE06 ,  5H018EE11 ,  5H018EE12 ,  5H018EE16 ,  5H018EE17 ,  5H018EE18 ,  5H018HH08 ,  5H026AA06 ,  5H026BB01 ,  5H026BB04 ,  5H026BB10 ,  5H026CX03 ,  5H026CX04 ,  5H026EE05 ,  5H026EE11 ,  5H026EE12 ,  5H026EE17 ,  5H026HH08