特許
J-GLOBAL ID:200903079416584223
一枚ウェーハ装置用のウェーハ温度制御装置
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
,
代理人 (1件):
矢野 敏雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-224155
公開番号(公開出願番号):特開平9-205080
出願日: 1996年08月26日
公開日(公表日): 1997年08月05日
要約:
【要約】【課題】 エッチング中の半導体ウェーハの局所的温度分布を検知・制御するための改善された装置を提供する。【解決手段】 分離層とチャック手段の間に熱電素子層が配設される。熱電素子層はペルチェ素子の接続から構成される中心領域閉ループと、同じくペルチェ素子の接続から構成される外部領域閉ループを有する。中心領域閉ループがウェーハの中心領域に、そして外部領域閉ループがウェーハの外部領域に対応するよう配設される。
請求項(抜粋):
カソード電極と、ウェーハを保持するためのチャック手段を有した形式の一枚ウェーハエッチング装置用の温度制御装置であり、チャック手段がカソード電極上に配設されており、チャック手段によりウェーハが所定の温度で支持される構成を具備した温度制御装置において、複数の熱電素子を含む熱電層を有し、前記熱電層はカソード電極とチャック手段の間に配設されており、また前記熱電層は複数の閉ループを有し、それぞれの閉ループは前記複数の熱電素子のうち所定数を互いに接続しており、それぞれの閉ループがウェーハの特定領域に対応するよう配置されており、閉ループのそれぞれに結合され、所定の温度を示す制御電圧を閉ループのそれぞれに供給するための手段を有し、ウェーハの特定領域のそれぞれの温度が閉ループのそれぞれにより制御されることを特徴とする、一枚ウェーハエッチング用温度制御装置。
IPC (4件):
H01L 21/3065
, C23C 16/52
, H01L 21/68
, H01L 35/28
FI (4件):
H01L 21/302 B
, C23C 16/52
, H01L 21/68 N
, H01L 35/28 Z
引用特許:
審査官引用 (4件)
-
特開平4-087321
-
基板冷却装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-095337
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
ウエハ支持装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-168294
出願人:キヤノン株式会社
前のページに戻る