特許
J-GLOBAL ID：200903079432008089
ハーフトーン位相シフトマスクおよびそのマスクブランクスならびにハーフトーン位相シフトマスクの製造方法および欠陥修正方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-162871
公開番号（公開出願番号）：特開平11-015127
出願日： 1997年06月19日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：
【要約】【課題】遮光部と半透明位相シフト部から成るハーフトーン位相シフトマスクに遮光膜欠陥が発生した場合、マスクにダメージを残さずに欠陥修正する方法、およびそのような欠陥修正が可能なハーフトーン位相シフトマスク、ハーフトーン位相シフトマスクブランクスおよびハーフトーン位相シフトマスクの製造方法を提供する。【解決手段】遮光膜4と半透明位相シフト膜2の間に酸化珪素などから成る中間薄膜3を形成する。欠陥検査と集束イオンビームによる修正を中間薄膜3の付いた状態で行い、最後にアルカリ水溶液によるウエットエッチングで中間薄膜3を除去する。
請求項（抜粋）：
透明基板の表面が露出する開口部と、透過する露光光の位相を前記開口部に対し反転しつつ振幅を減衰させる半透明位相シフト膜を前記透明基板の上に積層した半透明位相シフト部と、前記半透明位相シフト膜の上に遮光膜を積層することにより光を遮る遮光部とを備え、前記半透明位相シフト膜と前記遮光膜の間に前記半透明位相シフト膜と前記遮光膜の双方に対しエッチング選択性を有する中間薄膜を備えることを特徴とするハーフトーン位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (5件)：
G03F 1/08 A
, G03F 1/08 V
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 502 W
, H01L 21/30 528
