特許
J-GLOBAL ID：200903079443294083
荷電粒子ビーム露光方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-049491
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263306
出願日： 1994年03月18日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：
【要約】【目的】 本発明は荷電粒子ビーム露光方法及び装置に関し、電流密度やレジスト感度等の露光条件の変化があっても所望の描画位置を描画して精度の高い描画が可能なことを目的とする。【構成】 試料上のレジスト感度及び電流密度に基き、BAAマスク上の開口をオンオフ制御する第1のクロックの周波数を変化させ、主偏向器と副偏向器による偏向位置の変化に対する荷電粒子ビームの焦点補正及び収差補正演算のための第2のクロックの周波数を略一定とする。
請求項（抜粋）：
試料が搭載されたステージを第1の方向に連続的に移動させながら、BAAマスク上の複数の開口夫々をオンオフ制御して複数の荷電粒子ビームを全体として所望の形状となるように制御し、かつ主偏向器と副偏向器で荷電粒子ビームを偏向して試料上にパターンを描画する荷電粒子ビーム露光方法において、上記試料上のレジスト感度及び電流密度に基き、BAAマスク上の開口をオンオフ制御する第1のクロックの周波数を変化させ、上記主偏向器と副偏向器による偏向位置の変化に対する荷電粒子ビームの焦点補正及び収差補正演算のための第2のクロックの周波数を略一定とすることを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
IPC (2件)：
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