特許
J-GLOBAL ID:200903079446097416

定 盤

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 恩田 博宣
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP1999003470
公開番号(公開出願番号):WO2000-000328
出願日: 1999年06月29日
公開日(公表日): 2000年01月06日
要約:
【要約】高い耐磨耗性と、安価な製造コストとを両立した定盤(10)。定盤(10)は石材(11)と溶射層(13)とを備えている。溶射層(13)は大気プラズマ溶射法により石材(11)の上面にセラミックからなる溶射材を溶射することにより形成される。溶射層(13)の上面は所望の表面精度を有するように研磨される。
請求項(抜粋):
基準面を提供するための定盤(10)であって、 ベースとなる石材(11)と、 その石材(11)の表面の少なくとも一部に、セラミックからなる溶射材によって形成され、所定の表面精度を有する表面を備えた層(13)とを備えた定盤。
IPC (2件):
B25H 1/02 ,  C23C 4/00
FI (2件):
B25H 1/02 ,  C23C 4/00

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