特許
J-GLOBAL ID:200903079446130383

光触媒被覆膜及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西 義之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-075517
公開番号(公開出願番号):特開平11-267517
出願日: 1998年03月24日
公開日(公表日): 1999年10月05日
要約:
【要約】【課題】光触媒活性が大きく、高温多湿な環境やアルカリ溶液中に放置しても膜強度が低下し剥離を生じず、さらに基材がソーダ石灰ガラスの場合でも下地層が不要である、高耐久性の光触媒機能を有する光触媒被覆膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】予め焼成処理を施した結晶化度が90%以上である高結晶性の光触媒微粒子を金属酸化物からなるマトリックスに分散させてなる。
請求項(抜粋):
予め焼成処理を施した結晶化度が90%以上である高結晶性の光触媒微粒子を金属酸化物からなるマトリックスに分散させたことを特徴とする光触媒被覆膜。
IPC (4件):
B01J 35/02 ZAB ,  A47G 1/00 ,  B01J 21/06 ,  C03C 17/25
FI (4件):
B01J 35/02 ZAB J ,  A47G 1/00 A ,  B01J 21/06 M ,  C03C 17/25 Z

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