特許

J-GLOBAL ID：200903079447402190

露光装置および該露光装置に用いられるマスク

発明者： 中島 利治 ,  長山 匡 ,  谷 裕久
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-076573
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260709
出願日： 1998年03月10日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】 エキシマレーザ光のような深紫外光の照射に対して劣化しにくい指標パターンの設けられた投影露光装置。【解決手段】 露光光源(1)から供給された深紫外光で所定の転写用パターンが形成されたマスク(107)を照明し、マスクの転写用パターン像を投影光学系(106)を介して感光性の基板(102)上に投影する露光装置である。深紫外光の照射を受ける位置に指標パターン(19、20)を配置するとともに、この指標パターンを経由した深紫外光を検出する検出系(23〜30)を配置している。指標パターンの遮光部または反射部は、深紫外光の照射に対する耐久性がクロムよりも実質的に高い材料で形成されている。

請求項（抜粋）：

深紫外光でマスクを照明し、該マスク上に形成された転写用パターンの像を投影光学系を介して感光性基板上に投影する露光装置において、前記深紫外光の照射を受ける位置に指標パターンを配置するとともに、該指標パターンを経由した前記深紫外光を検出するための検出系を配置し、前記指標パターンの遮光部または反射部は、前記深紫外光の照射に対する耐久性がクロムよりも実質的に高い材料で形成されていることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 515 B ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 516 B