特許
J-GLOBAL ID:200903079452178347

排ガス処理設備及び排ガス処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-226368
公開番号(公開出願番号):特開2003-033626
出願日: 2001年07月26日
公開日(公表日): 2003年02月04日
要約:
【要約】【課題】 設備コスト及びランニングコストを低減でき且つ設備を小型化できる排ガス処理設備及び排ガス処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、被乾燥物を蒸気により直接加熱して乾燥する直接加熱型乾燥装置1から排出される排ガスを処理する排ガス処理設備14において、活性汚泥槽16と、乾燥装置1から排出される排ガスで活性汚泥槽16中の槽内液21を曝気する曝気手段25とを備える。この場合、乾燥装置1から排出される排ガスが、活性汚泥槽16の槽内液21により冷却され、排ガス中のアンモニアや硫化水素等の臭気成分は活性汚泥により生物分解される。即ち簡単な構成で排ガスの冷却、除塵、臭気成分の生物分解が可能となる。
請求項(抜粋):
被乾燥物を蒸気により直接加熱して乾燥する直接加熱型乾燥装置から排出される排ガスを処理する排ガス処理設備において、活性汚泥槽と、前記直接加熱型乾燥装置から排出される排ガスで前記活性汚泥槽中の槽内液を曝気する曝気手段と、を備えることを特徴とする排ガス処理設備。
IPC (3件):
B01D 53/38 ,  B01D 53/77 ,  C02F 11/12
FI (2件):
C02F 11/12 B ,  B01D 53/34 116 C
Fターム (17件):
4D002AA03 ,  4D002AA13 ,  4D002AB02 ,  4D002BA02 ,  4D002BA13 ,  4D002CA02 ,  4D002CA06 ,  4D002DA59 ,  4D002EA02 ,  4D002GA01 ,  4D002GA03 ,  4D002GB03 ,  4D002GB06 ,  4D059AA00 ,  4D059BD03 ,  4D059BD05 ,  4D059BD22

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