特許
J-GLOBAL ID:200903079464499149
水素添加還元方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
坂口 信昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-331699
公開番号(公開出願番号):特開2002-138071
出願日: 2000年10月31日
公開日(公表日): 2002年05月14日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】例えば、写真用の中間体としてのニトロ化合物を水素添加還元反応によりアミノ化合物を得るに際して、該水素添加還元反応に使用する溶媒量を出来るだけ少量とし、反応速度を十分に高める水素添加還元方法、さらに高純度のアミノ化合物得る方法を提供する。【解決手段】酢酸のアルカリ金属塩または酢酸のアルカリ土類金属塩の存在下に、一般式Iの化合物を水素添加により還元して一般式IIの化合物を得る水素添加還元方法。[Rはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、複素環基またはアリールアミノ基を表し、Xはハロゲンを表す。]
請求項(抜粋):
酢酸のアルカリ金属塩または酢酸のアルカリ土類金属塩の存在下に、下記一般式[I]で表される化合物を水素添加により還元して下記一般式[II]で表される化合物を得ることを特徴とする水素添加還元方法。【化1】[式中、Rはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、複素環基またはアリールアミノ基を表し、Xはハロゲン原子を表す。]
IPC (5件):
C07C231/12
, C07C233/25
, C07C233/80
, C07D213/81
, C07B 61/00 300
FI (5件):
C07C231/12
, C07C233/25
, C07C233/80
, C07D213/81
, C07B 61/00 300
Fターム (31件):
4C055AA01
, 4C055BA02
, 4C055BA58
, 4C055BB04
, 4C055BB07
, 4C055BB08
, 4C055BB10
, 4C055CA01
, 4C055DA01
, 4C055FA15
, 4C055FA32
, 4C055FA37
, 4H006AA02
, 4H006AC52
, 4H006BA02
, 4H006BA06
, 4H006BA21
, 4H006BA32
, 4H006BA70
, 4H006BB14
, 4H006BB20
, 4H006BC10
, 4H006BE20
, 4H006BJ50
, 4H006BM30
, 4H006BM72
, 4H006BN30
, 4H006BU46
, 4H006BV74
, 4H039CA71
, 4H039CB40
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