特許
J-GLOBAL ID：200903079474825419
減圧処理装置の回転機構
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-165246
公開番号（公開出願番号）：特開2001-345276
出願日： 2000年06月02日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
要約：
【要約】【課題】 多数の導入管、排気配管やそれらに関わる複雑な制御機構を付加せずに、磁気シール部からの金属汚染物の基板処理室への混入防止及び反応生成物などによる磁気シール部の破損防止が可能な減圧処理装置の回転機構を提供する。【解決手段】 回転軸12に不活性ガス導入通路16を設け、不活性ガス導入通路16からのガス吹き出し口19を回転軸12におけるボート設置テーブル6とシールキャップ3との間に形成し、基板処理室1内部においてボート設置テーブル6とシールキャップ3との間のガス吹き出し口19が臨む空間を仕切る仕切壁20を設ける。このようにすれば磁気シール部15からの金属汚染物が基板処理室1に入ったり、基板処理室1からの反応生成物が磁気シール部15に拡散したりすることがなくなり、回転機構部7の交換頻度が減る。
請求項（抜粋）：
減圧下で基板を処理する基板処理室と、前記基板処理室を閉鎖するシールキャップと、前記基板処理室内部において基板を設置するボートと、前記ボートを設置するボート設置テーブルと、外部から前記シールキャップを貫通して前記基板処理室内部へ導入されて前記ボート設置テーブルに固定された回転軸と、減圧下にある前記基板処理室と外部雰囲気とを遮断し、気密を保つにために前記回転軸と前記囲む回転機構部筐体の内壁との間に設けられた磁気シール部と、前記回転軸および磁気シール部を囲む回転機構部筐体とを備え、基板を設置するボートおよびボート設置テーブルを回転軸を介して回転させながら減圧下で基板を処理する減圧処理装置において、回転軸に不活性ガス導入通路を設け、不活性ガス導入通路からのガス吹き出し口を回転軸における前記ボート設置テーブルと前記シールキャップとの間に形成し、前記基板処理室内部において前記ボート設置テーブルと前記シールキャップとの間の前記ガス吹き出し口が臨む空間を仕切る仕切壁を設けたことを特徴とする減圧処理装置の回転機構。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, C23C 16/458
H01L 21/205
, C23C 16/458
4K030EA04
, 4K030EA05
, 4K030EA06
, 4K030GA06
, 4K030GA08
, 4K030KA04
, 4K030KA10
, 5F045AA06
, 5F045BB14
, 5F045DP19
, 5F045EB10
, 5F045EE14
, 5F045EM10
, 5F045EN05
