特許

J-GLOBAL ID：200903079477797025

成膜装置および成膜方法

発明者： 藤井 隆雄
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-003541
公開番号（公開出願番号）：特開2004-216210
出願日： 2003年01月09日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：

【課題】高品質な膜を安定して形成することが可能であり、タクトタイムの増加も抑制可能な成膜装置および成膜方法を提供する。【解決手段】成膜装置10のインクジェットヘッド2により基板7の被噴射位置に所定量の原料液滴を噴射し、インクジェットヘッド2により基板7に形成された膜の厚さを膜厚測定器9によって測定し、膜厚測定器9によって測定された膜厚と規定の膜厚とに基づいて、調整部Tによって、インクジェットヘッド2が新たな基板7の被噴射位置に噴射する液滴の量を独立に調整する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

対象物の成膜面内の複数の被噴射位置に噴射した原料液滴の広がりにより膜を形成する成膜装置であって、 前記被噴射位置に所定量の前記液滴を噴射する噴射手段と、 前記噴射手段により前記成膜面に形成された膜の厚さを測定する測定手段と、 前記測定手段によって測定された膜厚と規定の膜厚とに基づいて、前記噴射手段が前記被噴射位置に噴射する前記液滴の量を独立に調整する調整手段と を有する成膜装置。

IPC (5件)：

B05C11/10 ,  B05C5/00 ,  B05D1/26 ,  B05D3/00 ,  G02F1/1337

FI (5件)：

B05C11/10 ,  B05C5/00 101 ,  B05D1/26 Z ,  B05D3/00 D ,  G02F1/1337

Fターム (25件)：

2H090HC06 ,  2H090HC18 ,  2H090HD14 ,  4D075AC06 ,  4D075AC09 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075AC92 ,  4D075AC94 ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB31 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AA06 ,  4F041BA56 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AA07 ,  4F042BA02 ,  4F042BA08 ,  4F042BA25