特許

J-GLOBAL ID：200903079490960482

感放射線性樹脂組成物

発明者： 小林 英一 ,  西山 覚 ,  矢田 勇二
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-361467
公開番号（公開出願番号）：特開2000-181066
出願日： 1998年12月18日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】 紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、X線の如き各種の放射線に有効に感応し、感度、解像度、PED安定性、パターン形状に優れるとともに、特に「ナノエッジラフネス」あるいは「膜面荒れ」を生じることがなく、高精度の微細なレジストパターンを安定して形成することができる化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 組成物は、(A)p-ヒドロキシスチレン/p-t-ブトキシスチレン共重合体で代表される、カチオン重合を経て得られる共重合体、および(B)感放射線性酸発生剤を含有する。

請求項（抜粋）：

(A)下記式(1)で表される繰返し単位と下記式(2)で表される繰返し単位とを有し、カチオン重合を経て得られる共重合体、および(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔式(1)において、R1 は水素原子またはメチル基を示す。〕【化2】〔式(2)において、R2 は水素原子またはメチル基を示し、R3 は炭素数4〜10の3級アルキル基を示す。〕

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (17件)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA11 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB51 ,  2H025CB56