特許
J-GLOBAL ID：200903079505274637

レーザ描画装置

発明者：
竹内 修一

竹内 修一 について


出願人/特許権者：
旭光学工業株式会社

旭光学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 金井 英幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-178253
公開番号（公開出願番号）：特開2001-356488
出願日： 2000年06月14日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：
【要約】【課題】描画用のレーザ光として非可視領域の波長からなるレーザ光を使用しているにも拘わらず、アラインメント調整を容易に行うことができるレーザ描画装置を、提供する。【解決手段】レーザ描画装置1は、レーザ光源10と,波長選択フィルタ60と,縮小光学系22,音響光学変調器25及びコリメートレンズ27を主に備える変調光学系20と,fθレンズ41及びコンデンサレンズ43を主に備える結像光学系40とから構成される。レーザ光源10は、非可視領域の波長と可視領域の波長の2波長からなるレーザ光を発する。波長選択フィルタ60は、非可視光を透過させる第1の領域60aと可視光を透過させる第2の領域60bとに区分されており、描画時にはレーザ光を描画光として、また、アラインメント時にはレーザ光をアラインメント光として切り替えることができる。
請求項（抜粋）：
非可視領域の波長からなる描画用のレーザ光と可視領域の波長からなるアラインメント用のレーザ光とを互いのビーム軸を同軸上に配置して発する光源部と、前記光源部から発せられるレーザ光を変調する変調光学系と、前記変調光学系において変調されたレーザ光を偏向する偏向器と、前記偏向器により偏向されたレーザ光を被描画体の描画面上に結像させる結像光学系とを備えたことを特徴とするレーザ描画装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 529
Fターム (12件)：
2H097BB03 ,  2H097CA17 ,  2H097LA09 ,  2H097LA10 ,  5F046BA07 ,  5F046CA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB02 ,  5F046CB08 ,  5F046CB12 ,  5F046FA03 ,  5F046FA05
引用特許：
審査官引用 (19件)
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