特許

J-GLOBAL ID：200903079511889953

プラズマ装置の真空チャンバー

発明者： 遠藤 民夫
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 後藤 隆英 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-232870
公開番号（公開出願番号）：特開平6-060997
出願日： 1992年08月08日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：

【要約】【目的】 プラズマ装置に用いられる真空チャンバー100のメンテナンスを容易かつ迅速に行うことを可能とする。【構成】 真空チャンバー100を構成する気密状ハウジング101を、分離可能な上部側103と下部側104とから構成し、気密状の真空チャンバー100に、メンテナンス用の開口を形成可能としたものであって、上部側103と下部側104とは、気密性を有するシール手段107,106を介して連結・分離可能に設けられている。

請求項（抜粋）：

真空室を形成する気密状のハウジングから構成されてなり、当該気密状のハウジング内には、プラズマ生成用の平行平板電極が配置されたプラズマ装置の真空チャンバーにおいて、前記気密状のハウジングは、上部側と下部側とからなる分割構造に構成されているとともに、当該気密状のハウジングの上部側と下部側とは、気密性を有するシール手段を介して連結・分離可能に設けられていることを特徴とするプラズマ装置の真空チャンバー。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 1/08 101 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302