特許

J-GLOBAL ID：200903079516744937

ドライエッチング方法及びその装置

発明者： ▲斎▼藤 義治
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-098847
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275399
出願日： 1992年03月25日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：

【要約】【目的】 側壁が外広がりでなだらかなテーパー形状で、開孔部に鈍角の角部を持つトレンチホールを形成するドライエッチングを行う。【構成】 電子サイクロトロン共鳴放電ドライエッチング装置のエッチング室8側壁に石英窓22を設け、その外側に紫外線源21を設置して、エッチング室8内部に設置したエッチング・ウェハーの両側に平行平板電極、上下にマグネットコイルを配置して、エッチング・ウェハー面と水平方向に電界、鉛直方向に磁界を励起し、エッチング室8内に導入した3フッ化塩素気体に紫外線照射して発生した陰イオンを利用してサイドエッチングを起こす。【効果】 紫外線源のランブ電圧を時間の関数として制御すると、エッチングしたトレンチホールの側壁がなだらかなテーパー形状となり、また側壁形状を垂直深さの関数として任意にデザインすることが可能となる。

請求項（抜粋）：

マイクロ波と磁界とを相互干渉させ、電子サイクロトロン共鳴現象を引き起こして気体をプラズマ化し、ウェハー面をエッチングするドライエッチング方法であって、ウェハー面に対し水平方向に電界を励起するとともに、垂直方向に磁界を励起し、かつウェハー面に紫外線を照射し、エッチングを行うことを特徴とするドライエッチング方法。