特許
J-GLOBAL ID：200903079520500406
インクジェット用一液型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-279201
公開番号（公開出願番号）：特開2005-045116
出願日： 2003年07月24日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：
【課題】 作業性や保存安定性に優れているのみならず、鉛筆硬度、耐溶剤性、耐薬品性、半田耐熱性にも優れたインクジェット用一液型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)1分子中にアリル基を2個以上有し、かつ粘度が50°Cで30mPa・s以下のアリルモノマー、(B)1分子中にアクリロイル基を1〜2個有し、かつ粘度が50°Cで10mPa・s以下のアクリロイルモノマー、(C)1分子中にアクリロイル基を3個以上有し、かつ粘度が50°Cで30mPa・s以下のアクリロイルモノマー、(D)光重合開始剤、(E)酸化防止剤、(F)顔料、及び(G)有機溶剤を含有する組成物を提供する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)1分子中にアリル基を2個以上有し、かつ粘度が50°Cで30mPa・s以下のアリルモノマー、(B)1分子中にアクリロイル基を1〜2個有し、かつ粘度が50°Cで10mPa・s以下のアクリロイルモノマー、(C)1分子中にアクリロイル基を3個以上有し、かつ粘度が50°Cで30mPa・s以下のアクリロイルモノマー、(D)光重合開始剤、(E)酸化防止剤、(F)顔料、及び(G)有機溶剤を含有することを特徴とするインキジェット用一液型レジスト組成物。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H05K3/28 C
, C09D11/00
, B41J3/04 101Z
2C056FB05
, 2C056HA44
, 2H086BA01
, 2H086BA05
, 2H086BA52
, 2H086BA55
, 2H086BA59
, 2H086BA61
, 4J039AD21
, 4J039BE01
, 4J039BE27
, 4J039EA04
, 4J039EA06
, 4J039EA36
, 4J039EA39
, 4J039EA40
, 4J039EA44
, 4J039GA17
, 4J039GA24
, 5E314AA25
, 5E314AA27
, 5E314BB02
, 5E314CC03
, 5E314CC06
, 5E314DD06
, 5E314EE01
, 5E314EE02
, 5E314FF01
, 5E314GG08
, 5E314GG10
, 5E314GG14
, 5E314GG17
, 5E314GG18
, 5E314GG24
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (7件)
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