特許

J-GLOBAL ID：200903079521494310

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 百田 淳 ,  水谷 一良
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-194590
公開番号（公開出願番号）：特開平11-038627
出願日： 1997年07月18日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 高い解像力を有し、定在波の発生及びノッチングの発生を防止することができるポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】 酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定の構造の化合物例えば下記の化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、(b)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)下記一般式(I)で示される化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】上記式(I)中、R1 〜R4 は同一あるいは異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、置換されていてもよい炭素数1〜6個のアルキル基、置換されていてもよい炭素数6〜10個のアリール基、-C(=O)-R9 、-O-R10、-S-R11又は-NR12R13、を表す。但し、R1 とR2 あるいはR3 とR4 は、互いに-C(=O)R-、-C(=O)OR-、-C(=O)OC(=O)-、-C(=O)N(R’)-RC(=O)-(ここで、Rは単結合もしくは、置換されていてもよい、炭素数1〜4個のアルキレン基又はフェニレン基を表し、R’は水素原子、メチル基又はエチル基を表す。)で連結して環を形成してもよい。R1 〜R4 のうち少なくとも一つは、-C(=O)-R9を表す。R9 は、水素原子、水酸基、置換されていてもよい炭素数1〜4個のアルキル基、置換されていてもよい炭素数6〜14個のアリール基、-NR12R13又は-O-R14を表す。R14は置換されていてもよい炭素数1〜5個のアルキル基、又は置換されていてもよい炭素数6〜14個のアリール基を表す。R5 〜R8 は、同一あるいは異なって、水素原子、水酸基、置換されていてもよい炭素数1〜6個のアルキル基、置換されていてもよい炭素数6〜14個のアリール基又は-O-R15を表す。R10〜R13、R15は、同一あるいは異なって、水素原子、炭素数1〜5個のアルキル基、-C(=O)OR16、-C(R17)(R18)-OR19、-CH2 C(=O)OR16、-C(=O)-CH2 C(=O)OR16(ここで、R16、R19は各々炭素数1〜5個のアルキル基を表し、R17、R18は各々炭素数1〜3個のアルキル基を表す。)を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/30 502 R