特許
J-GLOBAL ID:200903079530790305
超音波洗浄方法とその洗浄装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-129986
公開番号(公開出願番号):特開平8-318235
出願日: 1995年05月29日
公開日(公表日): 1996年12月03日
要約:
【要約】【目的】平面状基板を回転させながら、その表面を超音波スプレで洗浄する装置において、螺旋ピッチが短くなるように、基板の1回転数あたりのアーム速度を(スプレノズルによる洗浄径以下)mm/secとすることにより、洗浄効率を向上させる。【構成】超音波洗浄装置は、被洗浄基板をスピン回転する盤5と、基板洗浄部3のアーム8により支持された周波数1MHzの超音波スプレノズル7で構成される。アーム8は基板半径方向に水平往復移動させ、その移動速度と基板の回転速度を調整できるように、調整機能を設ける。アームにノズルは2個取り付け、洗浄液は純水を使用し、洗浄液を循環させるポンプと、異物再付着防止のための濾過器が装着される。洗浄槽中の被洗浄体を洗浄する際に、螺旋ピッチの一部が重なるようにアーム移動速度とスピン回転速度の両方を調整する。【効果】超音波スプレの螺旋ピッチを短くし、洗浄面積を広範囲に高める。
請求項(抜粋):
被洗浄基板を回転させながら、表面上を、アームに支持された超音波スプレノズルで、半径方向に往復移動することによって洗浄する洗浄装置において、被洗浄基板の1回転数あたりのアーム速度を{(スプレノズルによる洗浄径以下)mm/sec}とすることによって、超音波スプレノズルによる洗浄で形成される螺旋ピッチを短くすることを特徴とする超音波洗浄方法。
IPC (3件):
B08B 3/12
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304
FI (3件):
B08B 3/12 Z
, H01L 21/304 341 N
, H01L 21/304 341 M
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