特許

J-GLOBAL ID：200903079533819207

反射防止コーティング用組成物

発明者： 高野 祐輔 ,  田中 初幸 ,  リー・ドンハン
出願人/特許権者： クラリアント ジャパン 株式会社
代理人 (1件)： 鐘尾 宏紀 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-319888
公開番号（公開出願番号）：特開2001-142221
出願日： 1999年11月10日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【目的】レジストとのインターミックスなどにより引き起こされる、化学増幅型ポジ型レジストのT-トップや同ネガ型レジストのラウンドトップなどのパターン形状の劣化のない反射防止コーティング用組成物およびそれを用いたレジストパターンの形成方法を提供する。【構成】フォトレジスト膜上に、少なくとも(a)ポリアクリル酸、(b)ポリビニルピロリドン、(c)Cn F2n+1COOH(nは3〜11の整数)および(d)水酸化テトラメチルアンモニウムを含有する反射防止コーティング用組成物を塗布して反射防止膜を形成した後、露光、現像してレジストパターンを得る。

請求項（抜粋）：

少なくとも下記(a)、(b)、(c)および(d)を含有することを特徴とする反射防止コーティング用組成物。(a)ポリアクリル酸(b)ポリビニルピロリドン(c)Cn F2n+1COOH(nは3〜11の整数)(d)水酸化テトラメチルアンモニウム

IPC (2件)：

G03F 7/11 501 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/11 501 ,  H01L 21/30 574

Fターム (29件)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ01 ,  2H025CB06 ,  2H025CB13 ,  2H025CB51 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025DA02 ,  2H025DA03 ,  2H025DA40 ,  2H025FA17 ,  5F046AA02 ,  5F046AA07 ,  5F046AA13 ,  5F046BA04 ,  5F046CA02 ,  5F046CA03 ,  5F046CB24 ,  5F046DA07 ,  5F046DA30