特許
J-GLOBAL ID:200903079556403580

潜函体の沈設工法とその沈設工法に用いる支持機構

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐々木 功 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-031185
公開番号(公開出願番号):特開平7-238555
出願日: 1994年03月01日
公開日(公表日): 1995年09月12日
要約:
【要約】【目的】 本発明は、地盤を掘削しながら潜函体を基礎地盤にまで沈設させる潜函体の沈設工法に関し、長さの長い地下構造物を沈設させる場合の損傷を防止した沈設工法を提供することである。【構成】 潜函体1を地上で形成してその下部を掘削しながら所定の基礎地盤にまで沈設させる潜函体の沈設工法において、予め基礎地盤に到達させて垂設した支持部材6に支持桁11を昇降自在に設けて支持機構5を形成し、該支持機構5の支持桁11で前記潜函体1の下部1aを支持させつつ降下させて、当該潜函体1を沈設させることである。
請求項(抜粋):
潜函体を地上で形成してその下部を掘削しながら所定の深さまで沈設させる潜函体の沈設工法において、予め支持地盤に到達させて垂設した支持部材に支持桁を昇降自在に設けて支持機構を形成し、該支持機構の支持桁で前記潜函体の下部を支持させつつ降下させて、当該潜函体を沈設させることを特徴とする潜函体の沈設工法。
IPC (2件):
E02D 23/08 ,  E02D 23/00
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特公昭38-018276
  • 特公昭48-020247
  • 特開昭62-233339
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