特許

J-GLOBAL ID：200903079564635597

剥離剤組成物

発明者： 名越 英二 ,  樫原 栄二 ,  代田 真美
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-190556
公開番号（公開出願番号）：特開2000-019745
出願日： 1998年07月06日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】高エネルギー処理を受けて変質したレジストでも容易にかつ短時間で剥離することができるレジスト用剥離剤組成物を提供すること。【解決手段】(A)アミン化合物、4級アンモニウム塩及び酸からなる群より選ばれた1種以上の化合物と、(B)一般式(I):【化1】(式中、R1 は水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数2〜5のアルケニル基、AOはエチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイド、Xは水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基又はアシル基、nは0〜5の整数、mは1〜10の整数を示す)で表わされる化合物を含有するレジスト用剥離剤組成物。

請求項（抜粋）：

(A)アミン化合物、4級アンモニウム塩及び酸からなる群より選ばれた1種以上の化合物と、(B)一般式(I):【化1】(式中、R1 は水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数2〜5のアルケニル基、AOはエチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイド、Xは水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基又はアシル基、nは0〜5の整数、mは1〜10の整数を示す)で表わされる化合物を含有するレジスト用剥離剤組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/308

FI (3件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/308 E ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (10件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096LA03 ,  5F043BB30 ,  5F043CC16 ,  5F043CC20 ,  5F043DD07 ,  5F043DD30 ,  5F046MA02 ,  5F046MA03