特許

J-GLOBAL ID：200903079569218358

高分子複合材料及びその製造方法

発明者： 佐藤 克洋 ,  小野 好之
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-175257
公開番号（公開出願番号）：特開平10-017768
出願日： 1996年07月04日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：

【要約】【課題】 光学的特性を有する金属硫化物微粒子を、高分子材料中に高濃度にかつ均一に分散・保持してなる高分子複合材料を提供すること。【解決手段】 官能基を有するマトリックス形成性物質における該官能基の反応に伴って形成された金属硫化物微粒子がマトリックス中に分散されてなることを特徴とする高分子複合材料である。前記マトリックスが、式(1)〜(5)で表される構造を有する化合物を含んでなる態様が好ましい。【化1】【化2】【化3】

請求項（抜粋）：

官能基を有するマトリックス形成性物質における該官能基の反応に伴って形成された金属硫化物微粒子がマトリックス中に分散されてなることを特徴とする高分子複合材料。

IPC (6件)：

C08L 79/08 LRB ,  C08J 5/18 CFG ,  C08K 3/30 ,  C08L101/00 LTB ,  G02F 1/35 503 ,  H01L 31/04

FI (6件)：

C08L 79/08 LRB ,  C08J 5/18 CFG ,  C08K 3/30 ,  C08L101/00 LTB ,  G02F 1/35 503 ,  H01L 31/04 D