特許
J-GLOBAL ID：200903079570369513
改良された排出システムを有する単一基板式の真空処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-008684
公開番号（公開出願番号）：特開平6-244123
出願日： 1994年01月28日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【目的】 大型ガラス基板110を処理するための単一基板用真空チャンバの排出システムを改良し、処理チャンバ100内の粒子の迅速除去を可能にすることを目的とする。【構成】 ガス分散板120及び真空排出システムを内部に有するふた部102と、処理される基板110の支持部107を含むチャンバ本体104と、チャンバ本体104に対してふた部102を閉めたときにガス分散板120及び支持部107の間に形成される処理領域124とを備えている。
請求項（抜粋）：
a) ガス分散板及び真空排出システムを内部に有するふた部、b) 処理される基板の支持部を含むチャンバ本体、及びc) 前記チャンバ本体に対して前記ふた部を閉めたときに、前記ガス分散板及び前記支持部の間に形成される処理領域を備えた真空処理チャンバ。
IPC (2件)：
前のページに戻る
