特許
J-GLOBAL ID:200903079575868461

ゲノムDNAにおけるシトシンのメチル化パターン同定法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 荒井 鐘司 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-584101
公開番号(公開出願番号):特表2002-530118
出願日: 1999年11月19日
公開日(公表日): 2002年09月17日
要約:
【要約】本発明は、ゲノムDNAにおける5-メチルシトシンの位置同定法に関する。【解決手段】 シトシンと5-メチルシトシンが異なる反応を示し、その反応生成物が二重鎖内で異なる塩基対合を示すことを使って、1つの細胞、1つの細胞株、1つの組織あるいは1個体のゲノムDNAを化学的に処理する工程aと、ポリメラーゼ反応を使って、同一の核酸切片を増幅する工程bと、少なくとも1つの他の細胞、細胞株、組織、個体あるいは任意の参照DNAの同じ核酸切片を、前記工程aおよび前記工程bに準じて処理する工程cと、前記工程bと前記工程cの中の少なくとも2つの増幅産物からヘテロ二重鎖を形成する工程dと、非相補的塩基対に特異的な反応を使って、ヘテロ二重鎖に標識を施す工程eを行うゲノムDNAにおける5-メチルシトシンの位置同定法。
請求項(抜粋):
シトシンと5-メチルシトシンが異なる反応を示し、その反応生成物が二重鎖内で異なる塩基対合を示すことを使って、1つの細胞、1つの細胞株、1つの組織あるいは1個体のゲノムDNAを化学的に処理する工程aと、 ポリメラーゼ反応を使って、同一の核酸切片を増幅する工程bと、 少なくとも1つの他の細胞、細胞株、組織、個体あるいは任意の参照DNAの同じ核酸切片を、前記工程aおよび前記工程bに準じて処理する工程cと、 前記工程bと前記工程cの中の、少なくとも2つの増幅産物からヘテロ二重鎖を形成する工程dと、 非相補的塩基対に特異的な反応を使って、ヘテロ二重鎖に標識を施す工程eを行うことを特徴とする、ゲノムDNAにおける5-メチルシトシンの位置同定法。
IPC (4件):
C12N 15/09 ,  C12Q 1/68 ,  G01N 27/62 ,  G01N 33/50
FI (4件):
C12Q 1/68 Z ,  G01N 27/62 V ,  G01N 33/50 P ,  C12N 15/00 A
Fターム (21件):
2G045BB14 ,  2G045DA13 ,  2G045FB02 ,  2G045GC30 ,  4B024AA20 ,  4B024CA01 ,  4B024HA11 ,  4B063QA17 ,  4B063QA18 ,  4B063QA19 ,  4B063QQ01 ,  4B063QQ08 ,  4B063QQ43 ,  4B063QR32 ,  4B063QR50 ,  4B063QR62 ,  4B063QR71 ,  4B063QS03 ,  4B063QS25 ,  4B063QX02 ,  4B063QX04

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