特許
J-GLOBAL ID:200903079575868461
ゲノムDNAにおけるシトシンのメチル化パターン同定法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
荒井 鐘司 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-584101
公開番号(公開出願番号):特表2002-530118
出願日: 1999年11月19日
公開日(公表日): 2002年09月17日
要約:
【要約】本発明は、ゲノムDNAにおける5-メチルシトシンの位置同定法に関する。【解決手段】 シトシンと5-メチルシトシンが異なる反応を示し、その反応生成物が二重鎖内で異なる塩基対合を示すことを使って、1つの細胞、1つの細胞株、1つの組織あるいは1個体のゲノムDNAを化学的に処理する工程aと、ポリメラーゼ反応を使って、同一の核酸切片を増幅する工程bと、少なくとも1つの他の細胞、細胞株、組織、個体あるいは任意の参照DNAの同じ核酸切片を、前記工程aおよび前記工程bに準じて処理する工程cと、前記工程bと前記工程cの中の少なくとも2つの増幅産物からヘテロ二重鎖を形成する工程dと、非相補的塩基対に特異的な反応を使って、ヘテロ二重鎖に標識を施す工程eを行うゲノムDNAにおける5-メチルシトシンの位置同定法。
請求項(抜粋):
シトシンと5-メチルシトシンが異なる反応を示し、その反応生成物が二重鎖内で異なる塩基対合を示すことを使って、1つの細胞、1つの細胞株、1つの組織あるいは1個体のゲノムDNAを化学的に処理する工程aと、 ポリメラーゼ反応を使って、同一の核酸切片を増幅する工程bと、 少なくとも1つの他の細胞、細胞株、組織、個体あるいは任意の参照DNAの同じ核酸切片を、前記工程aおよび前記工程bに準じて処理する工程cと、 前記工程bと前記工程cの中の、少なくとも2つの増幅産物からヘテロ二重鎖を形成する工程dと、 非相補的塩基対に特異的な反応を使って、ヘテロ二重鎖に標識を施す工程eを行うことを特徴とする、ゲノムDNAにおける5-メチルシトシンの位置同定法。
IPC (4件):
C12N 15/09
, C12Q 1/68
, G01N 27/62
, G01N 33/50
FI (4件):
C12Q 1/68 Z
, G01N 27/62 V
, G01N 33/50 P
, C12N 15/00 A
Fターム (21件):
2G045BB14
, 2G045DA13
, 2G045FB02
, 2G045GC30
, 4B024AA20
, 4B024CA01
, 4B024HA11
, 4B063QA17
, 4B063QA18
, 4B063QA19
, 4B063QQ01
, 4B063QQ08
, 4B063QQ43
, 4B063QR32
, 4B063QR50
, 4B063QR62
, 4B063QR71
, 4B063QS03
, 4B063QS25
, 4B063QX02
, 4B063QX04
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