特許
J-GLOBAL ID:200903079578559427

水素ガス製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊藤 毅
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-186242
公開番号(公開出願番号):特開平9-012301
出願日: 1995年06月28日
公開日(公表日): 1997年01月14日
要約:
【要約】【課題】 簡単な構成により水素ガスを低コストで製造できる水素ガス製造装置を提供する。【解決手段】 炭化水素系ガスを原料とし燃料ガスの燃焼熱により吸熱形ガスを生成する吸熱形ガス発生装置100と、芳香族ポリイミドを素材とする透過膜により水素ガスを選択透過させる水素セパレータ200とからなり、前記吸熱形ガス発生装置100で生成された吸熱形ガス中の水素ガスを該水素セパレータ200を通して分離回収する。また、透過膜の非透過ガスを吸熱形ガス発生装置100の燃料ガスとして使用する。
請求項(抜粋):
炭化水素系ガスを原料とし燃料ガスの燃焼熱により吸熱形ガスを生成する吸熱形ガス発生装置と、芳香族ポリイミドを素材とする透過膜により水素ガスを選択透過させる水素セパレータとからなり、前記吸熱形ガス発生装置で生成された吸熱形ガス中の水素ガスを該水素セパレータを通して分離回収するようにしたことを特徴とする水素ガス製造装置。
IPC (3件):
C01B 3/56 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/64
FI (3件):
C01B 3/56 Z ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/64

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