特許

J-GLOBAL ID：200903079578926977

洗浄剤組成物

発明者： 今村 孝 ,  松本 千賀子
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-270787
公開番号（公開出願番号）：特開平8-134496
出願日： 1994年11月04日
公開日（公表日）： 1996年05月28日
要約：

【要約】【構成】 (A)重量比で(1)/(2)=100/0〜70/30であるリン酸エステル系界面活性剤、【化1】(R1 、R2 はC10〜C18のアルキル基等、X1 〜X3 はH、アルカリ金属等、k、m及びnは0〜10の数)、及び(B)アミド基を有するヒドロキシスルホベタイン(3)【化2】(R4 はC7 〜C23の炭化水素基、R5 はH、C1 〜C4 の炭化水素基、R6 及びR7 はC1 〜C4 の炭化水素基、pは1〜6の数)を含有する洗浄剤組成物。【効果】 皮膚等に対する刺激が少なく、起泡性に優れ、泡質がクリーミーで、しかも洗浄後の皮膚等の感触が良好である。

請求項（抜粋）：

次の成分(A)及び(B):(A)一般式(1)で表されるリン酸エステル系界面活性剤又はこれと一般式(2)で表されるリン酸エステル系界面活性剤との混合物であって、その含有重量比が(1)/(2)=100/0〜70/30であるリン酸エステル系界面活性剤【化1】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ炭素数10〜18の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、X1 、X2 及びX3 はそれぞれ水素原子、アルカリ金属、アンモニウム又はアルカノールアンモニウムを示し、k、m及びnは、それぞれ0〜10の数を示す)(B)一般式(3)で表されるアミド基を有するヒドロキシスルホベタイン【化2】(式中、R4 は炭素数7〜23の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素基を示し、R5 は水素原子又は炭素数1〜4の炭化水素基を示し、R6 及びR7 は同一又は異なって、炭素数1〜4の炭化水素基を示し、pは1〜6の数を示す)を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (7件)：

C11D 1/94 ,  C11D 10/02 ,  C11D 10/04 ,  C11D 1:34 ,  C11D 1:92 ,  C11D 3:20 ,  C11D 9:02