特許
J-GLOBAL ID:200903079588398987

無電解ニッケルめっき補充液及びめっき液の調製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 池浦 敏明 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-000409
公開番号(公開出願番号):特開2001-192846
出願日: 2000年01月05日
公開日(公表日): 2001年07月17日
要約:
【要約】【課題】 無電解ニッケルめっき廃液から無電解ニッケルめっき補充液及びめっき液を調製する方法を提供する。【解決手段】 ニッケルを含む無電解めっき廃液から無電解ニッケルめっき補充液を調製する方法であって、(i)該廃液にニッケル抽出剤を含む油性液体を接触させて該廃液中のニッケルを該油性液体に抽出させる抽出工程、(ii)該油性液体に酸性物質を含む水溶液を接触させて該油性液体中のニッケルを該水溶液中に逆抽出する逆抽出工程、(iii)該水溶液にニッケル化合物を加えてニッケル濃度を所定濃度に調節するニッケル濃度調節工程、からなることを特徴とするニッケルめっき補充液の調製方法。
請求項(抜粋):
ニッケルを含む無電解めっき廃液から無電解ニッケルめっき補充液を調製する方法であって、(i)該廃液にニッケル抽出剤を含む油性液体を接触させて該廃液中のニッケルを該油性液体に抽出させる抽出工程、(ii)該油性液体に酸性物質を含む水溶液を接触させて該油性液体中のニッケルを該水溶液中に逆抽出する逆抽出工程、(iii)該水溶液にニッケル化合物を加えてニッケル濃度を所定濃度に調節するニッケル濃度調節工程、からなることを特徴とするニッケルめっき補充液の調製方法。
IPC (2件):
C23C 18/16 ,  C23C 18/32
FI (2件):
C23C 18/16 Z ,  C23C 18/32
Fターム (7件):
4K022BA14 ,  4K022DA01 ,  4K022DB02 ,  4K022DB04 ,  4K022DB07 ,  4K022DB08 ,  4K022DB21
引用特許:
出願人引用 (3件)

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