特許
J-GLOBAL ID：200903079597524839
イオン注入法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-226190
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086197
出願日： 1993年09月10日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：
【要約】【目的】 イオン注入の際の不要な元素の混入を防ぎ、かつ注入領域での注入の均一化を計り、さらに注入時間を短縮することを目的とする。【構成】 本発明のイオン注入法は、イオン源からイオンを発生し、このイオンをビーム化して被処理体に照射し、被処理体に所定の元素を注入する際に、当該イオン源を被処理体を構成する材料に含まれる成分元素と注入する所定の元素とを構成元素とする。
請求項（抜粋）：
イオン源からイオンを発生し、このイオンをビーム化して被処理体に照射し、被処理体に所定の元素を注入するイオン注入法において、前記イオン源は前記被処理体を構成する材料に含まれる成分元素と前記所定の元素とを構成元素とすることを特徴とするイオン注入法。
IPC (3件)：
H01L 21/265
, H01J 37/08
, H01J 37/317
H01L 21/265 D
, H01L 21/265 Z
, H01L 21/265 A
